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| MOQ: | 1セット |
| standard packaging: | 木製ケース |
| payment method: | T/T |
デジタル光処理(DLP) は,1987年に開発されたディスプレイ技術です.テキサス・インストラクション電子機器を搭載した光学技術に基づいています.デジタルマイクロミラー装置(DMD) は,異なる性能特性を有するチップセットのセットです.
まず,DMDは半導体で 完全に無機材料で作られています. これはデバイスの長寿に大きな影響を与えます. 製造者のデータから,装置の寿命は 150 年までです2つ目は,DMDは光学設計に塵や小粒子が入らないように密封できるので,通常は画像の質が劇的に低下します.さらに,DLP投影システムは優れたコントラストと画像明るさの均一性を提供し,多くのハイエンド投影でも重要な要因である.シミュレーター,プラネタリウム,科学ビジュアライゼーション,制御室,その他の用途など
DLP技術の重要な部品の一つは DMDです これは個々のピクセルを作り出す部品です半導体チップのマトリックスに置かれた微小な鏡によって作成されます.
このDLPシステムエグレーバーで 3Dやデジタル効果を簡単に作ることができます.
多チャネルレーザー組み合わせのユニークな技術,レーザー電力の多種オプション,安定したエネルギー出力を保証するレーザーエネルギーの均一化,すべての内部熱部品の恒温を確保する水冷却システムレーザーの出力が安定することを保証します
双軸磁気浮遊運動制御システムと超高精度グリッドフィードバックシステムで,高速と高精度操作を保証し,システムは安定し,保守が簡単です.
高解像度レンズ 焦点深さ幅が広い 自動リアルタイム焦点調整システムで 自動フレームロックメカニズムで あらゆる種類の不均質なプレートで 簡単に操作できますシンプルで信頼性の高い操作.
12700dpiまでのデータ出力解像度,繊細でスムーズな移行線,細かくスムーズなドット復元,あらゆる種類のプレート製造分野の要求に応用できます.
| 画面の最大サイズ | 水平標準モデル:1200x1200mm (カスタマイズ可能) 垂直モデル:3200*3000mm (カスタマイズ) |
| スクリーンサイズ | 400×400mm |
| フレームの厚さ | 25~50mm |
| 画像システム技術 | DMD |
| レーザーパワーモデル | 10W,15W,20W |
| レーザータイプ | 紫外線レーザー |
| フォーカスシステム | リアルタイムのフォーカス制御 |
| データ解像度 | 5081270dpi,2540dpi,5080dpi,12700dpi |
| 乳液の厚さ | 6〜50μm |
| 線直径 | Min.50μm (エムルションとスクリーンフレームによって異なります) |
| ラスター | 130行分 |
| ファイル形式 | ティフ |
| 暴露 の 時間 | 3-5分 1000×1000mm エミュルションによって異なります |
| サイズ |
水平標準モデル:2050×2800×1550mm 垂直モデル: オーダーメイド |
| 純重量 |
標準型水平: 1600KGS 垂直モデル: オーダーメイド |
| パワー | 220V/4KW |
ビデオ
ビデオ
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| MOQ: | 1セット |
| standard packaging: | 木製ケース |
| payment method: | T/T |
デジタル光処理(DLP) は,1987年に開発されたディスプレイ技術です.テキサス・インストラクション電子機器を搭載した光学技術に基づいています.デジタルマイクロミラー装置(DMD) は,異なる性能特性を有するチップセットのセットです.
まず,DMDは半導体で 完全に無機材料で作られています. これはデバイスの長寿に大きな影響を与えます. 製造者のデータから,装置の寿命は 150 年までです2つ目は,DMDは光学設計に塵や小粒子が入らないように密封できるので,通常は画像の質が劇的に低下します.さらに,DLP投影システムは優れたコントラストと画像明るさの均一性を提供し,多くのハイエンド投影でも重要な要因である.シミュレーター,プラネタリウム,科学ビジュアライゼーション,制御室,その他の用途など
DLP技術の重要な部品の一つは DMDです これは個々のピクセルを作り出す部品です半導体チップのマトリックスに置かれた微小な鏡によって作成されます.
このDLPシステムエグレーバーで 3Dやデジタル効果を簡単に作ることができます.
多チャネルレーザー組み合わせのユニークな技術,レーザー電力の多種オプション,安定したエネルギー出力を保証するレーザーエネルギーの均一化,すべての内部熱部品の恒温を確保する水冷却システムレーザーの出力が安定することを保証します
双軸磁気浮遊運動制御システムと超高精度グリッドフィードバックシステムで,高速と高精度操作を保証し,システムは安定し,保守が簡単です.
高解像度レンズ 焦点深さ幅が広い 自動リアルタイム焦点調整システムで 自動フレームロックメカニズムで あらゆる種類の不均質なプレートで 簡単に操作できますシンプルで信頼性の高い操作.
12700dpiまでのデータ出力解像度,繊細でスムーズな移行線,細かくスムーズなドット復元,あらゆる種類のプレート製造分野の要求に応用できます.
| 画面の最大サイズ | 水平標準モデル:1200x1200mm (カスタマイズ可能) 垂直モデル:3200*3000mm (カスタマイズ) |
| スクリーンサイズ | 400×400mm |
| フレームの厚さ | 25~50mm |
| 画像システム技術 | DMD |
| レーザーパワーモデル | 10W,15W,20W |
| レーザータイプ | 紫外線レーザー |
| フォーカスシステム | リアルタイムのフォーカス制御 |
| データ解像度 | 5081270dpi,2540dpi,5080dpi,12700dpi |
| 乳液の厚さ | 6〜50μm |
| 線直径 | Min.50μm (エムルションとスクリーンフレームによって異なります) |
| ラスター | 130行分 |
| ファイル形式 | ティフ |
| 暴露 の 時間 | 3-5分 1000×1000mm エミュルションによって異なります |
| サイズ |
水平標準モデル:2050×2800×1550mm 垂直モデル: オーダーメイド |
| 純重量 |
標準型水平: 1600KGS 垂直モデル: オーダーメイド |
| パワー | 220V/4KW |
